Protsess

Personali tugiteenused

Seame keskseks eesmärgiks oma töötajate professionaalse võimekuse kasvatamise, mis lähtub töötajate motivatsioonist, rahvusvahelisest avatusest ja sihipärasusest personalivalikul. Eeldame akadeemiliselt personalilt rahvusvahelist töökogemust, pidevat enesearendamist ning aktiivset osalemist rahvusvahelises teadus- ja arendustegevuses ning õppetöös. Võtame kasutusele ühtse, tenuuri põhimõtetele tugineva akadeemilise karjäärimudeli.

Risk 5Tenuurisüsteemi finantsiline ebaselgus ja alarahastamine kahjustab akadeemilise karjääri jätkusuutlikkust ja atraktiivsust pikas perspektiivis.
Risk 1Pikaajaline, järjekindel juhtimiskvaliteedi ja juhtimisriskide alahindamine konkurentsipõhise rahastuslepingute/projektide haldamises seab suurde ohtu ülikooli konkurentsivõime ja maine tervikuna.
Risk 10Ebapiisav eestikeelne akadeemiline järelkasv seab ohtu eestikeelse kõrghariduse kestlikkuse ja teaduse konkurentsivõime.
Risk 13Piiratud võimalused värvata ja hoida eriala tipptegijaid ülikoolis, mõjutab pikemas perspektiivis ülikooli konkurentsivõimet.
Risk 14Vähenenud tulemuslikkusega professorite tenuurisüsteemist väljumise ebaselgus kahjustab akadeemilise karjääri mainet ja professorite väärikust.
Risk 16Intsidendid infosüsteemide Moodle ja ÕISiga võivad takistada õppetööd kriitilistel hetkedel.
Risk 27Muutunud töökeskkonnast tingitud töötajate läbipõlemise oht ja konfliktsituatsioonide kasv toob kaasa töökorralduse häired, sisekliima halvenemise ning töö tulemuslikkuse languse.
Risk 28Ebavõrdne kohtlemine liikmeskonna hulgas võib kaasa tuua sisekliima halvenemise, üksikisikute vaimse tervise häired ja ülikoolile suure mainekahju.
Risk 29Tööohutuse regulatsiooni eiramine toob kaasa raskete tagajärgedega tööõnnetused, mis võivad põhjustada töötajatele olulise töövõime kao ning ülikooli maine kahjustumise.
Risk 12Madal akadeemilise karjääri konkurentsivõime (õppejõudude/doktorantide/teadlaste suhteliselt madalad palgad tööturul) raskendab talentide värbamist, hoidmist ja järelkasvu jätkusuutlikkust.